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Vacuum Cluster System
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Wafer Transfer System |
Vacuum Cluster System은 Vacuum Robot을 탑재한 Transfer Module과 EFEM에 연결되는 Load Lock Chamber로 구성되어 있습니다. Vacuum Cluster System은 반도체 전공정(Fab)에 사용되고 있는 CVD, ALD, Dry Etcher, Sputter 등 반도체 전공정 장비의 공정 모듈에 연결되어서 반도체 웨이퍼를 로딩 및 언로딩하는 장치입니다.
코스텍시스템의 Vacuum Cluster System은 우수한 진공 성능, 공간 최적화된 구조, Footprint의 최소화, 진공 챔버내의 파티클 억제 기능 및 높은 생산성 등의 장점을 가지고 있고, 고객 요구를 만족시킬 수 있는 다양한 모델을 보유하고 있습니다.
Transfer Module은 병렬형, 방사형, Tandem형이 있고 Load Lock Chamber은 복층 구조, Pumping/Venting 시간 단축/최소화 기능을 가진 챔버 설계 구조, 정전기 제거를 위한 포토 이오나이저 유닛 설치 구조, 26단 적재가 가능한 Indexer 설치 구조(Batch 방식) 및 챔버내에 예열/냉각 기능의 유닛 추가로 웨이퍼 처리량의 극대화 등 다양한 장점을 가지고 있으며, 공정 모듈의 공정 조건에 최적화된 System 제공이 가능합니다.
TwinstarTM series are designed for an optimized twin wafer process with an excellent performance and high throughput. The system can be attached up to 3 twin process modules. | MaximaTM series are optimized for excellent performance and high throughput. The system can be attached up to 6 process modules. | OptimaTM series are optimized for excellent performance and high throughput. The system can be attached up to longer process time modules. |
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